轉自:經濟日報
金屬中心開出結合電弧(Arc)加濺鍍(Sputter )系統,成功使類鑽鍍膜硬度提昇至 Hv 6,000 以上,鍍膜 表面粗度小於 1.0nm,類鑽鍍膜面處理製程與系統技術,具 裝飾性、耐磨耗、抗沾粘、低摩擦等單一及複合功能,可廣 泛應用於金屬製品、模具與光電等產業。
該中心表示,目前設備已用在塑膠射出模具(含精密及光學 模具)、塑膠加纖射出模具、衝壓模具、粉末冶金模具、鋁 擠型模具及精密切銷工具上,並成功用於醫療用骨科鋸片上 及 LED 散熱鰭片上。
金屬中心成功開發出兼具電弧與濺鍍設備的目的,主要針對 高溫、高硬度磨耗對手材切銷微型產品而開發的鍍膜設備, 如模具、銑刀、微小鑽頭及醫療用鋸片等。以往類鑽鍍膜厚 度到 1 μ m 需時 1 小時以上,耗費至成時間及成本高, 降低廠商的競爭力,金屬中心開發出電弧與濺鍍設備,厚度 1 μ m 約需 40 分鐘。可提升模具及切削工件壽命,對於 國內業者開發綠色環保 LED 製程的產品,在散熱上可產生 顯著效益。
金屬中心類鑽鍍膜特性:高硬度 Hv ≧ 6,000、耐腐蝕性佳 表面平滑< 1.0nm、摩擦係數小 ~0.1、低表面能、電絕緣 性佳 108-1013 Ω -cm、熱傳導性佳10-15W/m-K、可透 IR 及可見光、能在低溫下成長<100 ℃、使用溫度可達400℃以 上。歡迎國內有興趣廠商諮詢。
金屬中心電話(07)351-3121,分機 3554
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